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名稱:超純氨氣      型號:

高純氨

高純氨主要應用于新型光電子材料領域,是MOCVD技術制備GAN的重要基礎材料。由GAN生產高靈敏度藍光發光二級管和藍光激光器,以及其它相關電子器件,是國內外都在搶占的產業。高純氨還是制備三氟化氮、氮化硅、的基礎材料,是生產超高級氮的原料氣。此外,液氨廣泛地應用于半導體工業、冶金工業,以及需要保護氣氛的其他工業和科學研究中。

 商品詳細介紹    
 A colorless,toxic,flammable,corrosive,liquefied gas.(一種無色,有毒,可燃,具腐蝕性的可液化氣體)
 Formula(分子式): NH3  
 Molecular weight(分子量): 17.03g/mol  
 Boiling point(沸點): -33.4℃ 28.1°F
 Melting point(熔點): -77.7℃ 107.9°F
 Vapor pressure(蒸汽壓): 888KPa(21.1℃) 129Psia(70°F)
 Specific volume(比容): 1.41m3/kg(21.1℃,101.325KPa) 
22.6ft3/lb(70°F,14.696psia)
 Lower Flammable Limit(最低可燃性含量): 15%  
 Upper Flammable Limit(最高可燃性含量): 30%  
 Threshold Limit Value(人體的最高容許濃度): 25ppm  
 DOT Classification(DOT類別): 2.2(Flammable Gas)(可燃性氣體)
 DOT Lable(DOT標簽): FLAMMABLE GAS(可燃性氣體)

 

 

 電子工業用氣體  氨(GB/T14601-2009)
 項目名稱 電子級 光電子級
 氨(NH3)純度(體積分數)/10-2         ≥  99.9995  99.99994
 氧(O2)含量(體積分數)/10-6          <  1  0.1
 氮(N2)含量(體積分數)/10-6                1  —
 氫(H2)含量(體積分數)/10-6          <  —  0.1
 一氧化碳(CO)含量(體積分數)/10-6        1  0.05
 二氧化碳(CO)含量(體積分數)/10-6        —  0.1
 烴(C1~C3)含量(體積分數)/10-6           1  0.05
 水分(H2O)含量(體積分數)/10-6            3  0.2
 總雜質含量(體積分數)/10-6                   5  0.6

 

 

 應用:晶圓清洗、在CVD過程中生成氮化硅或氮化鎵等薄膜

 

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